CMP
자사의 F80은 두께 이미징 제품은 산화물, STI 그리고 금속 CMP 공정에 사용됩니다. 유전체 식각율, 잔여 유전체 두께와 균일성, 침식, STI에 잔여 산화물이 일반적인 응용입니다. CMP 소모품 공급 업체들은 CMP 슬러리와 패드개발 시간을 단축시키며 CMP 공정의 특성분석을 하기 위해 탁상형 시스템을 사용합니다.
우리 F40 시스템은 유전체 막의 두께 및 침식 측정을 수행하는, CMP 공정 개발에 사용된다.
고객님의 반도체 CMP 측정에 관하여자사의 박막(Thin Film) 전문가에게 문의하시기 바랍니다.
Filmetrics는 무상의 샘플측정을 제공 합니다 - 결과는 보통 1-2일안에 가능 합니다.